施設紹介

毒性、爆発性など非常に危険性の高い特殊高圧ガスを取り扱う評価・開発を安全に実施していくために整備された実験室です。例えばClF₃(三フッ化塩素)など半導体製造装置内部の成膜処理工程で発生する副生成物をクリーニングするためのガスは、従来、人の手で行っていた作業をガス処理に変更することによって大幅な時間短縮と装置稼働率を向上できることから、多くの半導体デバイスメーカーヘの導入実績があります。

特殊高圧ガス実験室

クリーニングガスの評価・開発や除害装置の性能評価を行っています。

特殊ガス供給設備

モノシランなどの特殊高圧ガスを安全に供給するための半自動設備です。

ナノスケールや超精密な濃度管理など、これからの技術開発で求められるさまざまな課題に、精度の高い数値で対応できる多種多様な分析装置を整備。半導体製造で使われる特殊材料ガスの分析から、ナノテクノロジーの発展を左右するナノスケールの材料分析、世界トップレベルの高純度ガスを管理できる分析装置などを取りそろえています。次代を切り開く技術を正確にコントロールするための最新・高精度分析装置で技術開発に取り組んでいます。