岩谷産業株式会社
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2002年12月03日(火曜日)

半導体分野向け小・中流量排ガスの自己処理完結タイプ
スクラバー一体型燃焼式除害装置「ミックスダイナ」を開発、営業開始
岩谷産業株式会社
岩谷瓦斯株式会社
クリーン・テクノロジー株式会社

 岩谷産業株式会社(本社:大阪・東京、社長:牧野明次、資本金:200億円)は、
このほど、半導体分野向けに関係会社の岩谷瓦斯株式会社(本社・大阪、社長:山崎武徳、資本金:16億1900万円)、半導体用排ガス処理専業メーカー、クリーン・テクノロジー株式会社(本社:大阪府堺市、社長:淡路敏夫、資本金:5千万円)とのコラボレーションで、フッ素系地球温暖化ガスPFC(パーフルオロコンパウンド)の除去に関し、自己処理完結型、スクラバー一体型燃焼式除害装置「ミックスダイナ」を開発しました。同装置は「セミコンジャパン2002」(期間:12月4日〜6日、会場:幕張メッセ)への出展を機に、営業活動を開始します。

 「ミックスダイナ」は、岩谷産業が5年前に開発した燃焼筒構造(特許登録済)によって大流量処理を可能にした、岩谷瓦斯が製造する燃焼式除害装置「ダイナガードFシリーズ」の高性能な燃焼部と、クリーン・テクノロジー社の小型高効率湿式「スクラバー」との組合せで実現しました。
 PFCの最大除害処理能力は、希釈窒素を含めて、C2F6に対し200L/分、CF4に対しては最大100L/分までの小・中流量排ガス処理が可能です。そのため、装置本体をクリーンルーム内への設置を前提にサクションエア量を1/5以下に削減し、また装置本体の腐食対策に特殊コーティング技術の導入、さらに燃焼筒内部はスクレイパーにて装置を止めずに粉体除去を可能にしています。使用燃料は、LNG,LPG,H2に対応できます。

 従来の大流量排ガス処理用燃焼式除害装置「ダイナガードFシリーズ」展開に加え、今回開発した排ガス処理の自己完結型をコンセプトとする小、中流量排ガス処理用「ミックスダイナ」を始めとする、クリーン・テクノロジー社とのコラボレーションによってラインナップを充実させ、日本国内はもとより台湾、韓国、中国までを含めた施工・メンテナンス体制の充実で受注活動を急速展開する計画です。
 台湾、韓国の設備拡大は順調なだけに、日本の市場を含めて3年後には「ダイナガードFシリーズ」及び「ミックスダイナ」で年商30億円の売り上げを見込んでおります。

 PFCは、半導体の製造プロセスで多く使用されていますが、地球温暖化係数が二酸化炭素の数千倍から数万倍と高いことが最大の課題で、関連業界は、第一は「温暖化への影響の小さいガス、あるいは使用量を減らせるガスの使用」、第二は「クリーニングガスを大気中に排出させない」ことであります。

 岩谷産業は、この問題に対して、第一にガス取扱いの総合企業の立場から、こうした地球温暖化係数(GWP値)低減目標に対してGWP値がゼロあるいは低いガス(ClF3:三フッ化塩素、C3F8:八フッ化プロパン)の提案を積極的に行っています。
 第二には「クリーニングガスを大気中に排出させない」という課題に関し当社が取組んできたのが、大流量処理を可能にした燃焼式除害装置「ダイナガードFシリーズ」で、IC分野をはじめ液晶分野など広範な使用条件に対応しています。
 しかし一方で、IC分野からはスクラバーを内蔵した小、中量流処理能力をもつ自己完結型の除害装置の開発が望まれていました。「ミックスダイナ」はそうした市場に対応したものだけに、従来の国内市場に限定してきた販売体制を成長の著しい台湾、韓国、中国までに拡大する事にしました。施工・メンテナンスに関しても今回のクリーン・テクノロジー社とのコラボレーションで十分対応できる体制が整いました。

 なお、12月4日から6日まで幕張メッセにて開催される「セミコンジャパン2002」岩谷ブース(8号館)に、当「ミックスダイナ」の実機展示を国内初で行います。

●「ミックスダイナ」の仕様
型 式 MDO4P-4
本体寸法(mm) 1320(W)×800(D)×2125(H)
概算重量 800kg
最大処理流量(CF 200L/min
ユーティリティー LPG 〜16L/min 8〜20Pa
O2 〜80L/min 0.5〜0.8MPa
N2 14L/min 0.5〜0.8MPa
CDA 駆動用 0.5〜0.8MPa
電気 AC200V 3Φ 15KVA
冷却水 〜10L/min
※ LNG,H2 燃料タイプもラインナップしています。

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