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2000年11月24日(金曜日)

世界初!高精度・低メタルコンタミのH2Oベーパライザー・ユニットを開発
広報・社会関連部

-透明導電膜プロセス、アッシングプロセス、エッチングプロセスに
金属不純物の少ないH2O(水蒸気)の安定供給を実現-
 岩谷産業株式会社(本社:大阪・東京、社長:牧野明次、資本金:200億円)は、このほど高精度・低メタルコンタミネーションに対応した液晶及び半導体製造用H2Oベーパライザー・ユニットを世界で初めて開発、「セミコンジャパン2000」(12月6日〜8日、会場:幕張メッセ)に出展します。

 一般に各種製造工程においてH2O(水蒸気)は製品の品質劣化をもたらす不純物と見なされていますが、液晶製造の透明導電膜プロセスにおいては透明度を上げるなど様々な役割を果たし、半導体製造のアッシングプロセスやエッチングプロセスにおいては反応を促進するという重要な役割を果たしています。

 例えば透明導電膜は、液晶ディスプレイの大画面化や電極配線の微細化などにより要求性能が厳しくなっています。現在、最も高性能を発揮しているのはITO(酸化インジウム錫)薄膜ですが、この成膜工程でITO膜にH2O(水蒸気)を添加すると、
  1. ステップカバレッジが向上する(段差まで隈なく成膜できる)
  2. 均一性が向上する
  3. 抵抗が下がる
  4. 透明度が向上する
といった効果が認められています。
 これまで、このH2O(水蒸気)添加は液体マスフローコントローラー(MFC)や気体MFCで供給する方法が採られていましたが、前者においては制御性(精度)が悪い、後者においてはMFCの性能不足により精度が悪い、大量供給・常圧対応が困難といった問題があり、流量制御や均一な雰囲気づくりがうまくできませんでした。

 今回、当社が開発した液晶及び半導体製造用のH2Oベーパライザーユニットは、低差圧、高温で動作するMFCと、水蒸気を安定して発生させる高性能気化器とを組み合わせることにより、液晶及び半導体製造プロセスにおいて、10sccm〜20slmのH2O(水蒸気)を正確に流量制御し、均一な雰囲気で安定的に供給することができ、常圧プロセスへの対応も可能にしたものです。
 また、従来から高温の水蒸気を発生させる加温容器内部、水温測定用熱電対にはフッ素系樹脂ライニングを施し、液面計には石英を用いた光学式センサーを使用することで、原料水中へのメタルコンタミネーション溶出量の削減を図ってきましたが、加温容器以降の配管、バルブ、MFC等の加温された接ガス部には何の対策も施されておらず、片手落ちの状態でした。当社ではこの部分にもメスを入れ、オリジナル金属表面処理技術「オゾンパッシベーション処理」と組み合わせることで、加温容器以降で発生するメタルコンタミネーション量を、1/3程度に抑制することが可能となりました。

■H2Oベーパライザーユニット「HVU-1000」の主な仕様
外観寸法
200W×300D×250Hmm
重量
約13㎏(本体のみ)
電源
AC100V/10A
気化方法
直接気化方式
最大制御気化量
1,000sccm
オゾンパッシベーション処理
オプション

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